[论文推荐]MaskMark：基于掩码的全局与局部双模式图像水印框架
talkingdev • 2025-04-21
19097 views
近期arXiv平台发布的研究论文《MaskMark》提出了一种创新的图像水印技术方案，其核心是通过掩码驱动的Encoder-Distortion-Decoder（编码-失真-解码）框架，实现全局与局部水印的双模式灵活嵌入。该技术突破传统水印算法单一处理模式的局限，通过动态掩码机制可自主选择对整幅图像或特定区域进行水印植入，在保证视觉质量的同时显著提升水印鲁棒性。实验表明，该框架能有效抵抗JPEG压缩、高斯噪声等常见图像攻击，为数字版权保护、内容溯源等场景提供了更精细化的解决方案。其模块化设计也便于集成到现有图像处理流程中，预计将对多媒体安全、AI生成内容鉴别等领域产生重要影响。
核心要点
- 提出基于掩码的Encoder-Distortion-Decoder三阶段水印框架
- 支持全局水印与局部区域水印的双模式灵活切换
- 模块化设计可抵抗多种图像攻击，兼容现有处理流程